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將新石墨舟及應用超出三年的舊石墨舟飽和狀態(tài)后開展pecvd表層的鍍膜,片間勻稱性差別如圖所示7所顯示。由圖7得知,新石墨舟表面平面度好,pecvd石墨舟,石墨舟片導電率一致,塑料薄膜分子結構能夠勻稱地沉積在硅片表面,片間勻稱性-。
新石墨舟飽和狀態(tài)后在沉積時仍有一部分等離子技術在石墨舟上面沉積,運作頻次低于三十次時,伴隨著運作頻次的提升,石墨舟生產廠家,石墨舟上面沉積的等離子技術降低,武漢石墨舟,片間勻稱性越佳。
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