塑膠真空鍍膜加工廠-真空鍍膜加工-泰坦金屬

真空鍍膜--磁控濺射鍍膜技能

一、磁控濺射鍍膜－濺射原理：

1.使chamber到達真空條件，一般控制在(2~5)e-5torr

2.chamber內通入ar，并啟動dc power

3.ar發(fā)作電離：ar ? ar+ ＋ e-

4.在電場效果下，（電子）會加快飛向anode（陽極）

5.在電場效果下，ar+會加快飛向陰極的target（靶材），target粒子及二次電子被擊出，前者到達substrate（基片）表面進行薄膜生長，后者被加快至陰極途中促成更多的電離。

6.筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近，延長其在等離子體中的運動軌道，進步它參與氣體分子磕碰和電離過程的幾率的效果。