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半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括有機物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離
子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、-殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括
重金屬金、銅、鐵、鉻等,-影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,引起-漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、-、微生物、有機膠體纖維等,會導(dǎo)
致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。
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硅片示蹤原子分析和質(zhì)譜分析表明,拆卸太陽能發(fā)電板回收公司,采用雙氧水體系清洗硅片,同時所用的全部化學(xué)試劑
h2o2、nh4oh、hcl能夠完全揮發(fā)掉。用h2so4和h2o2清洗硅片時,在硅片表面會留下約2×1010原子每平方厘米的硫原子,用后一種酸性
清洗液時可以完全被清除。用h2o2體系清洗硅片無殘留物,有害性小,也有利于工人健康和環(huán)境保護(hù)。硅片清洗中用各步清洗液處理后,都要用超純水沖洗
蘇州硅業(yè)公-期回收:光伏組件,收購太陽能電池片,硅料回收,單多晶裸片回收,拆卸太陽能發(fā)電板回收,太陽能碎電池片回收,ic拋光片回收,原生多晶硅回收,瓊海太陽能發(fā)電板,收購鍋底料,采購頭尾料,收購多晶
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硅具有耐高溫、電絕緣、耐輻射、防水等性能。用于電氣、航空、機械、化工、、、建筑等部門。作為集成電路-的電子元器件,95%以上
是用半導(dǎo)體硅制成的,半導(dǎo)體是當(dāng)代信息工業(yè)的支柱!靶畔⒏咚俟贰敝写罅繎(yīng)用的光纖電纜中的光纖,也是以金屬硅為原料生產(chǎn)的。美國和歐盟化學(xué)用硅的消費
量已占金屬硅總消費量的一半以上。
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