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真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。
真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn)：
(1)薄膜和基體選材廣泛，特種燈具反光杯注塑加工，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，惠州特種燈具反光杯，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。
各種鍍膜技術(shù)都需要一個蒸發(fā)源或蒸發(fā)靶，以便將蒸發(fā)的成膜物質(zhì)轉(zhuǎn)化為氣體。隨著來源或目標(biāo)的不斷提高，制作材料的選擇范圍也-擴(kuò)大。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機(jī)物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。
蒸發(fā)或?yàn)R射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。膜厚可以測量和控制。磁控鍍膜機(jī)的真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學(xué)氣相沉積。
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鍍膜技術(shù)是一種型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜。以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。
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