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在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關(guān)的。在800—1250~c的溫度范圍內(nèi),用干氧、濕氧或水汽進(jìn)行的熱氧化過程有三個(gè)持續(xù)的階段,首先是環(huán)境氣氛中的氧進(jìn)入到已生成的氧化層中,江西鋁壓鑄鈍化,然后氧通過二氧化硅向內(nèi)部擴(kuò)散,鋁壓鑄鈍化哪里好,當(dāng)它到達(dá)si02-si界面時(shí)就同硅發(fā)生反應(yīng),形成新的二氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進(jìn)入—擴(kuò)散—反應(yīng)過程,使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為二氧化硅,氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長(zhǎng)。
兩種鈍化理論都能較好地解釋部分實(shí)驗(yàn)事實(shí),鋁壓鑄鈍化怎么樣,但又都有成功和不足之處。金屬鈍化膜確具有成相膜結(jié)構(gòu),但同時(shí)也存在著單分子層的吸附性膜。尚不清楚在什么條件下形成成相膜,在什么條件下形成吸附膜。兩種理論相互結(jié)合還缺乏直接的實(shí)驗(yàn)證據(jù),因而鈍化理論還有待深入地研究。
這些物質(zhì)緊密地覆蓋在金屬表面上成為鈍化膜而導(dǎo)致金屬鈍化,鋁壓鑄鈍化哪里有,化學(xué)鈍化則是像濃hno3等氧化劑直接對(duì)金屬的作用而在表面形成氧化膜,或加入易鈍化的金屬如cr、ni等而引起的;瘜W(xué)鈍化時(shí),加入的氧化劑濃度還不應(yīng)小于某一臨界值,不然不但不會(huì)導(dǎo)致鈍態(tài),反將引起金屬更快的溶解。
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