芯片就在同創(chuàng)芯-北京供貨穩(wěn)定電子元器件供應(yīng)商

廈門迎2個-“芯”平臺

據(jù)廈門--，近日，福建省集成電路產(chǎn)教融合-發(fā)展聯(lián)盟正式成立。該聯(lián)盟由廈門大學(xué)發(fā)起，已發(fā)動福建省10余家高校、50余家企業(yè)、10余家研究機構(gòu)及行業(yè)協(xié)會，共約100家單位組成。聯(lián)盟屆理事長由廈門大學(xué)委張榮擔(dān)任。

該聯(lián)盟致力于解決福建省集成電路產(chǎn)業(yè)人才供給與需求錯位、產(chǎn)教脫節(jié)問題；充分發(fā)揮聯(lián)盟成員在產(chǎn)教協(xié)同育人、技術(shù)研發(fā)與應(yīng)用等方面的優(yōu)勢，推動基礎(chǔ)技術(shù)-和產(chǎn)業(yè)相關(guān)環(huán)節(jié)協(xié)同發(fā)展；切實加強集成電路產(chǎn)業(yè)人才的有效供給，為促進福建省集成電路產(chǎn)業(yè)的高發(fā)展貢獻力量

euv光刻用薄膜的電阻率和發(fā)射率研究

漢陽大學(xué)和德克薩斯大學(xué)達(dá)拉斯分校的新技術(shù)。

“薄膜是一種薄膜結(jié)構(gòu)，可保護極紫外 (euv) 掩模在-過程中免受污染。然而，由于極紫外光子的吸收，其有限的透射率會引起不-的加熱。euv薄膜的可以通過提高其熱穩(wěn)定性來避免，這是通過提高薄膜的發(fā)射率來實現(xiàn)的。然而，薄膜的發(fā)射率數(shù)據(jù)在文獻中并不容易獲得，其值對厚度非常敏感。因此，我們研究了發(fā)射率對結(jié)構(gòu)參數(shù)的依賴性，例如厚度、表面粗糙度和晶粒尺寸。我們使用理論和實驗方法發(fā)現(xiàn)了電阻率和發(fā)射率之間的相關(guān)性。通過改變ru薄膜的晶粒尺寸，使用 lorentz-drude 模型對電阻率和發(fā)射率之間的關(guān)系進行了實驗驗證和確認(rèn)。后，我們提出了一種開發(fā)具有-熱穩(wěn)定性的 euv 薄膜的方法，該薄膜可以承受高功率 euv 光源�！�