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實(shí)踐證明，電子束鋼帶真空鍍膜具有很多優(yōu)點(diǎn)：
（1）可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)-。能量密度-的電子束可以使鍍膜材在很短的時(shí)間達(dá)到3000℃~6000℃。因此，除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫之外，幾乎所有的金屬材料都可以蒸鍍，還可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為發(fā)展新型帶鋼材料提供了很大的自由度。
（2）鍍膜材料利用率高，派瑞林涂層防水，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒有有害液體、氣體的產(chǎn)生。
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積（pvd）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（cvd）技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，派瑞林涂層，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，派瑞林涂層公司，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。
派瑞林納米涂層式一種高分子熱可塑性聚合體，由單體對(duì)二在真空狀態(tài)下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。運(yùn)用氣相沉積的處理技術(shù)，可以于物體表面均勻coating形成膜層，薄膜的厚度可在1微米至 50微米的范圍內(nèi)任意調(diào)整。由于在真空狀態(tài)下操作蒸氣無孔不入效率，可形成無膜層， 并地控制膜層厚度，且各處厚度均勻一致，使派瑞林（(parylene coating)涂層的覆被特性遠(yuǎn)優(yōu)于epoxy（電泳）、spary（噴涂）、dipper（含浸）等涂裝方式。
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