酸腐蝕臺(tái)-晶淼半導(dǎo)體 清洗機(jī)-福州酸

濕法刻蝕設(shè)備

是一種刻蝕方法，福州酸，主要在較為平整的膜面上刻出絨面，從而增加光程，減少光的反射，刻蝕可用稀釋的-等濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是中學(xué)化學(xué)課中化學(xué)溶液腐蝕的概念，它是一種純化學(xué)刻蝕，具有優(yōu)良的選擇性，刻蝕完當(dāng)前薄膜就會(huì)停止，而不會(huì)損壞下面一層其他材料的薄膜。由于所有的半導(dǎo)體濕法刻蝕都具有各向同性，所以無(wú)論是氧化層還是金屬層的刻蝕，橫向刻蝕的寬度都接近于垂直刻蝕的-。這樣一來(lái)，上層光刻膠的圖案與下層材料上被刻蝕出的圖案就會(huì)存在一定的偏差，也就無(wú)法高地完成圖形轉(zhuǎn)移的工作，因此隨著特征尺寸的減小，在圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程中基本不再使用。目前，濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及圖形的環(huán)節(jié)，而在圖形轉(zhuǎn)移中干法刻蝕已占據(jù)--。

清洗機(jī)設(shè)備

平制造工程和制造工藝

      作為lcd制造工藝有代表性的清洗處理有以下幾類(lèi)：

      1）白玻璃基板清洗

      2）刻蝕處理后的清洗

      3）屏組裝工程的清洗

            摩擦后清洗

            us氣吹

            屏清洗裝置

            清洗檢測(cè)裝置

      4）其他相關(guān)的附帶清洗裝置

            邊框膠印刷用版的清洗

            夾具的清洗

            彩膜的清洗

            掩膜版的清洗

            取向膜剝離清洗

            卷?yè)P(yáng)干燥機(jī)

            ipa蒸氣干燥機(jī)

            旋轉(zhuǎn)

清洗設(shè)備是指可用于替代人工來(lái)清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見(jiàn)到清洗設(shè)備為：超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等；