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- 聯(lián)系人| 王經(jīng)理
- 聯(lián)系電話| 0512-68639079
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關(guān)于低溫等離子安全（安全）的注意事項(xiàng)： 1.低溫等離子表面處理設(shè)備屬于高壓設(shè)備，離子刻蝕設(shè)備沒有知識(shí)的任何人不得打開機(jī)箱進(jìn)行設(shè)備維護(hù)。 2. 未經(jīng)廠家-指導(dǎo)，不得隨意拆卸噴頭和主機(jī)。 3. 主機(jī)地線必須與（地）地線牢固連接。 4、供給設(shè)備的氣源水必須經(jīng)過清潔過濾。
規(guī)格通用功能是指封裝的尺寸、形狀、引腳數(shù)量、間距、長度等有標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格，既便于加工，又便于與印刷電路板相配合，相關(guān)的生產(chǎn)線及生產(chǎn)設(shè)備都具有通用性。
利用強(qiáng)腐蝕性的強(qiáng)酸蝕刻掉不需要的部份，剩余的部份即為常見的蝕刻片產(chǎn)品。它的細(xì)部表現(xiàn)功夫-于現(xiàn)有的各種模型材料之上，只要掌握制作技巧并輔助使用于模型上，相信可令您的作品精細(xì)度巨增。但因其硬度高，所以在切割及加工時(shí)較麻煩，而且無法用一般的烙鐵來焊接組合。銅的外觀不及不銹鋼的亮麗，但硬度低，蘇州系統(tǒng)，很容易加工，中央供液系統(tǒng)，可以用一般的烙鐵來焊接組合。
濕法刻蝕：用液體化學(xué)劑去除襯底表面的材料。早期普遍使用，在 3um 以后由于線寬控 制、刻蝕方向性的局限，主要用干法刻蝕。目前，濕法刻蝕仍用于特殊材料層的去除和 殘留物的清洗。干法刻蝕：常用等離子體刻蝕，也稱等離子體刻蝕，即把襯底暴露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離 子，與暴露的表面材料發(fā)生物理反應(yīng)、化學(xué)反應(yīng)。
清洗槽（也叫酸槽/化學(xué)槽），供酸設(shè)備系統(tǒng)，主要有hf，h2so4，中央供酸系統(tǒng)，h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子，去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。
中央供液系統(tǒng)-晶淼半導(dǎo)體 清洗機(jī)-蘇州系統(tǒng)由蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司提供。行路致遠(yuǎn)，-。蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力成為與您共贏、共生、共同前行的-，更矢志成為清洗、清理設(shè)備具有競爭力的企業(yè)，與您一起飛躍，共同成功!
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