菱威納米-派瑞林鍍膜小磁棒

       物-相沉積技術指的是在真空條件下，將原材料氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，在基材表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。物-相沉積技術可沉積金屬膜、合金膜、陶瓷、化合物膜、聚合物膜等。

       pvd技術可用于半導體領域導電薄膜的制備，例如晶圓制造過程中電極互連線膜的制備。pvd技術能以金、銀、銅、鋁、鉻、鎳和鐵等金屬或無機非金屬材料為原料，形成納米級別的薄膜，改變基材表面的光學特性。在光伏領域可用于減少光線反射，河源派瑞林鍍膜小磁棒，提高光電轉換效率；在電子消費品領域可用于改變電子產品顯示屏幕的分辨率、透光率。另外，pvd技術通常還用于改變基材色澤、外觀，用五金件上鍍上不同的顏色，做為裝飾用途。