景頤光電省事----光譜涂層膜厚儀-平頂山涂層膜厚儀

涂層膜厚儀———廣州景頤光電科技有限公司是一家專門做膜厚儀的廠家

膜厚測厚儀

越來越多客戶意識到設(shè)備的穩(wěn)定性對產(chǎn)品品質(zhì)、成品率的重要性，采購國內(nèi)相對設(shè)備，并開始使用一些新的涂布工藝和干燥方式，定位產(chǎn)品，而涂布的厚度測量需要一定的精密性，廠家需要采用測厚儀來測量涂布的厚度，以-產(chǎn)品效果的。

測量原理：

利用光入射不同界面發(fā)生反射和透射而產(chǎn)生干涉條紋的原理，測量被測物的厚度。

三、設(shè)備參數(shù)：

1、測量范圍：0.1um～100um

2、測量精度：0.4%

3、波長范圍：380nm～1100nm

4、響應(yīng)時間：5～500ms

5、測量光斑：1mm～30mm

6、動態(tài)掃描測量重復(fù)性：10nm

7、測量重復(fù)性：±0.4nm(3σ)

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光學(xué)膜厚儀的應(yīng)用

光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜，并且還有半導(dǎo)-晶顯示器等一系列的材料和產(chǎn)品的測量。一般的產(chǎn)品我們可以拿尺來進(jìn)行測量，對精度要求也不高。但是對薄膜等產(chǎn)品來說，精度是關(guān)系到產(chǎn)品的組裝和性能的，所以一定要測量。測量儀功能不能能夠準(zhǔn)確的進(jìn)行測量，還能及時的顯示出數(shù)據(jù)。

其次可以計算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

再次，就是操作方便，效率較高。這種優(yōu)勢對于薄膜測試的時候是非常重要的，畢竟薄膜測試是一種比較枯燥的工作，如果測試又比較繁雜的話，會使人心情焦躁，難免會影響測試時間和測試結(jié)果。

而操作方便，容易上手，幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析，發(fā)展?jié)摿?。

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