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真空鍍膜廠家mems真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要-半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,-重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,氮化鋁真空鍍膜廠家,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開(kāi)發(fā)。
通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。在濺射中,濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來(lái)的,鐵金屬真空鍍膜廠家,其能量較高,往往比蒸發(fā)原子高出1~2個(gè)數(shù)量級(jí),因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。若在濺射時(shí)襯底加適當(dāng)?shù)钠珘,可?襯底的清潔處理,這對(duì)生成薄膜的臺(tái)階覆蓋也有好處。另外,用濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點(diǎn)、低蒸氣壓物質(zhì)膜,氮化鈦真空鍍膜廠家,便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。
歡迎來(lái)電咨詢半導(dǎo)體研究所喲~真空鍍膜廠家
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同樣,靶材塊的晶體結(jié)構(gòu)、顆粒結(jié)構(gòu)、硬度、應(yīng)力以及雜質(zhì)等參數(shù)也會(huì)影響到濺射速率,而這些則可能會(huì)在產(chǎn)品上形成條狀的缺陷。這也需要在鍍膜期間加以注意。不過(guò),這種情況只有通過(guò)更換靶材才能得到解決。
靶材損耗區(qū)自身也會(huì)造成比較低下的濺射速率。這時(shí)候,為了得到優(yōu)良的膜層,必須重新調(diào)整功率或傳動(dòng)速度。因?yàn)樗俣葘?duì)于產(chǎn)品是-的,所以標(biāo)準(zhǔn)而且適當(dāng)?shù)恼{(diào)整方法是提高功率。
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使用電子束來(lái)加熱蒸發(fā)形成蒸發(fā)膜的優(yōu)點(diǎn)有以下幾條:首先,鍍膜機(jī)中的電子束加熱的方法相較于傳統(tǒng)的電阻加熱方法而言,電子束加熱會(huì)產(chǎn)生更高的通量密度,對(duì)于那些高熔點(diǎn)的材料的蒸發(fā)可以說(shuō)是有利條件,還可以使蒸發(fā)速率得到一定程度上的提高。其次,蒸發(fā)鍍膜機(jī)在工作的時(shí)候會(huì)將需要被蒸發(fā)的原材料放入到水冷銅坩堝內(nèi),這樣就可以-材料避免被污染,大幅度提高薄膜的純度,制造高純度的薄膜。后,電子束蒸發(fā)的粒子動(dòng)能較大,有利于薄膜的精密結(jié)合。
電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的系統(tǒng)組成一般大致相同系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、e型電子、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。
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