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¥來(lái)電咨詢(xún)
2015-1-2
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基于-的掃描光刻機(jī)平臺(tái)技術(shù),提供覆蓋前道ic制造90nm節(jié)點(diǎn)以上-生產(chǎn)所需,包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率節(jié)點(diǎn)要求的arf、krf及i-line步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)。該系列光刻機(jī)可兼容200mm和300mm硅片。
按照合同任務(wù)書(shū)計(jì)劃要求 激光加工,目前已完成項(xiàng)目的初步設(shè)計(jì)、詳細(xì)設(shè)計(jì)、零部件加工制造和部分關(guān)鍵分系統(tǒng)的驗(yàn)收 石排激光加工價(jià)格,即將進(jìn)入整機(jī)裝配集成階段。
光刻機(jī)是刻集成電路的,做出來(lái)是芯片,光盤(pán)刻錄機(jī)是刻光盤(pán)的,做出來(lái)是光盤(pán) 石龍激光加工廠家,是兩個(gè)完全不同的東東。
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