電子工程用高純---行業(yè)未來發(fā)展預(yù)測(cè)及投資風(fēng)險(xiǎn)分析報(bào)告(2017年---版）

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報(bào)告編號(hào): bg395357
出版日期: 2017年3月
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報(bào)告目錄



-章 半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)用高純-概述 16

1.1 高純-簡(jiǎn)介 16

1.2 高純-的主要基本性能與指標(biāo) 17

1.3 高純-的主要應(yīng)用領(lǐng)域 18

1.4 高純-在發(fā)展我國(guó)電子工業(yè)中的重要作用 19

第二章 電子特種氣體及其應(yīng)用市場(chǎng) 20

2.1 電子特種氣體概述 20

2.2 電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面 21

2.3 電子特種氣體的純凈度要求 23

2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)問題 25

2.4.1 對(duì)電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問題 25

2.4.2 氣體配送及供應(yīng)問題 26

2.4.3 儲(chǔ)存、使用中的安全性問題 27

2.4.4 成本性問題 28

2.5 -電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述 29

2.5.1 -電子特種氣體生產(chǎn)與市場(chǎng)情況 29

2.5.2 國(guó)內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展 30

第三章 高純-氣體性能指標(biāo)及制備、凈化的工藝路線 33

3.1 高純-的性能指標(biāo) 33

3.2 高純-工業(yè)化制備的典型工藝路線 34

3.2.1 制備工藝法概述 34

3.2.2 -合金法制備- 34

3.2.2.1 工藝過程 34

3.2.2.2 主要反應(yīng) 36

3.2.2.3 工藝特點(diǎn) 36

3.2.2.4 工藝法存在的問題 37

3.2.3 -氫硅還原法制備- 37

3.2.3.1 工藝過程 37

3.2.3.2 主要反應(yīng) 39

3.2.3.3 工藝特點(diǎn) 39

3.2.3.4 工藝法存在的問題 40

3.2.4 四-硅還原法制備- 41

3.2.4.1 工藝過程 41

3.2.4.2 主要反應(yīng) 41

3.2.4.3 工藝特點(diǎn) 41

3.2.4.4 工藝法存在的問題 42

3.2.5 氯-歧化法制備- 42

3.2.5.1 工藝過程 42

3.2.5.2 主要反應(yīng) 42

3.2.5.3 工藝特點(diǎn) 42

3.2.5.4 工藝法存在的問題 43

3.2.6 烷--歧化法 43

3.2.6.1 工藝過程 43

3.2.6.2 主要反應(yīng) 44

3.2.6.3 工藝特點(diǎn) 44

3.2.6.4 工藝法存在的問題 44

3.3 高純-氣體的凈化工藝路線 45

3.3.1 氣體的凈化方法概述 45

3.3.2 高純-的凈化過程 45

3.4 工業(yè)高純-氣體的包裝及貯運(yùn) 46

第四章 -高純-生產(chǎn)與主要企業(yè)現(xiàn)況 47

4.1 高純-產(chǎn)銷、市場(chǎng)規(guī)模的概況 47

4.2 國(guó)外高純-主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷情況 47

4.3 國(guó)外高純-主要生產(chǎn)企業(yè)簡(jiǎn)況 48

4.3.1 rec silicon公司 48

4.3.2 dowcorning公司 51

4.3.3 sodiff新素材有限公司 54

4.3.4 memc公司 57

4.3.5 air liquid公司 60

4.3.6 日本電氣工業(yè)公司 64

4.3.7 大陽(yáng)日酸公司 67

4.3.8 evonik industries公司 70

4.4 國(guó)內(nèi)-業(yè)的發(fā)展概述 72

4.4.1 我國(guó)高純-業(yè)發(fā)展的概述 72

4.4.2 我國(guó)-研發(fā)、生產(chǎn)的歷史 74

4.5 國(guó)內(nèi)高純-生產(chǎn)企業(yè)現(xiàn)況 75

4.5.1 國(guó)內(nèi)高純-生產(chǎn)企業(yè)總述 75

4.5.2 浙江中寧硅業(yè)有限公司 75

4.5.3 浙江賽林硅業(yè)有限公司 81

4.5.4 滁州市硅谷特種氣體有限公司 88

4.5.5 六九硅業(yè)有限公司 95

4.5.6 浙江金華美晶硅電子有限公司 102

4.5.7 黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司 108

4.5.8 深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司 115

第五章 高純-主要應(yīng)用領(lǐng)域的概述 122

5.1 高純-在集成電路中的應(yīng)用 122

5.1.1 集成電路芯片制程 122

5.1.2 化學(xué)氣相沉積和氣體應(yīng)用 122

5.1.3 高純-在化學(xué)氣相沉積中作為氣源形成的薄膜 131

5.2 高純-在薄膜硅太陽(yáng)電池中的應(yīng)用 132

5.2.1 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池 132

5.2.2 si薄膜的材料特性 132

5.2.3 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制作工藝及高純-其應(yīng)用 136

5.3 高純-在液晶顯示器中的應(yīng)用 138

5.3 高純-在液晶顯示器中的應(yīng)用 139

5.4 高純-在其它領(lǐng)域的應(yīng)用 139

5.4.1 在特種玻璃制造中的應(yīng)用 139

5.4.2 在電子部件制造中的應(yīng)用 140

5.4.3 在化合物半導(dǎo)體材料制造中的應(yīng)用 140

5.5 高純-在電子信息產(chǎn)品中應(yīng)用市場(chǎng)需求量的- 141

第六章 高純-主要應(yīng)用市場(chǎng)之一—集成電路產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì) 143

6.1 半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)與市場(chǎng)發(fā)展 143

6.1.1 半導(dǎo)體生產(chǎn)的現(xiàn)況 143

6.1.2 半導(dǎo)體硅片的生產(chǎn)狀況 145

6.2 我國(guó)半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)與市場(chǎng)現(xiàn)況與發(fā)展 145

6.2.1 我國(guó)集成電路市場(chǎng)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀 145

6.2.2 我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)情況 153

第七章 高純-主要應(yīng)用市場(chǎng)之二 —薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì) 154

7.1 -光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展 154

7.1.1 光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展 154

7.1.2 我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況 155

7.2 薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)與市場(chǎng) 163

7.2.1 薄膜太陽(yáng)能電池特點(diǎn)及品種 163

7.2.2 薄膜太陽(yáng)能電池未來市場(chǎng)發(fā)展前景 171

7.2.3 薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)及在光伏市場(chǎng)上的份額變化 174

7.3 -薄膜太陽(yáng)能電池的主要生產(chǎn)企業(yè) 175

第八章 高純-主要應(yīng)用市場(chǎng)之三 —液晶顯示器產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì) 180

8.1 平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況 180

8.2 我國(guó)平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來發(fā)展預(yù)測(cè) 181

8.2.1 我國(guó)液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述 181

8.2.2 我國(guó)lcd面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來幾年發(fā)展預(yù)測(cè) 183

8.2.3 我國(guó)發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關(guān)政策及未來發(fā)展的預(yù)測(cè)、分析 185



圖表目錄

圖表 1 -性能比較 18

圖表 2 氣體按其特性分類圖 21

圖表 3 雜質(zhì)對(duì)硅低溫選擇性外延沉積的影響 24

圖表 4 -與集成度的關(guān)系 25

圖表 5 微粒直徑與集成度的關(guān)系 25

圖表 6 特殊氣體供應(yīng)流程圖 27

圖表 7 -的性能指標(biāo) 33

圖表 8 氫化鋰還原-氫硅制備-工藝流程圖 38

圖表 9 2012-2016年高純-產(chǎn)銷分析 47

圖表 10 2012-2016年高純-市場(chǎng)規(guī)模分析 47

圖表 11 2016年國(guó)外高純-主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷情況 47

圖表 12 近4年rec silicon公司 流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 48

圖表 13 近4年rec silicon公司 總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 49

圖表 14 近4年rec silicon公司 銷售毛利率變化情況 49

圖表 15 近4年rec silicon公司 資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 49

圖表 16 近4年rec silicon公司 產(chǎn)權(quán)比率變化情況 50

圖表 17 近4年rec silicon公司 固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 50

圖表 18 近4年dowcorning公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 52

圖表 19 近4年dowcorning公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 52

圖表 20 近4年dowcorning公司銷售毛利率變化情況 52

圖表 21 近4年dowcorning公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 53

圖表 22 近4年dowcorning公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 53

圖表 23 近4年dowcorning公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 54

圖表 24 近4年sodiff新素材有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 55

圖表 25 近4年sodiff新素材有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 55

圖表 26 近4年sodiff新素材有限公司銷售毛利率變化情況 55

圖表 27 近4年sodiff新素材有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 56

圖表 28 近4年sodiff新素材有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 56

圖表 29 近4年sodiff新素材有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 57

圖表 30 近4年memc公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 58

圖表 31 近4年memc公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 58

圖表 32 近4年memc公司銷售毛利率變化情況 59

圖表 33 近4年memc公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 59

圖表 34 近4年memc公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 59

圖表 35 近4年memc公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 60

圖表 36 近4年air liquid公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 61

圖表 37 近4年air liquid公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 62

圖表 38 近4年air liquid公司銷售毛利率變化情況 62

圖表 39 近4年air liquid公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 63

圖表 40 近4年air liquid公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 63

圖表 41 近4年air liquid公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 63

圖表 42 近4年日本電氣工業(yè)公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 64

圖表 43 近4年日本電氣工業(yè)公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 65

圖表 44 近4年日本電氣工業(yè)公司銷售毛利率變化情況 65

圖表 45 近4年日本電氣工業(yè)公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 65

圖表 46 近4年日本電氣工業(yè)公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 66

圖表 47 近4年日本電氣工業(yè)公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 66

圖表 48 近4年大陽(yáng)日酸公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 67

圖表 49 近4年大陽(yáng)日酸公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 67

圖表 50 近4年大陽(yáng)日酸公司銷售毛利率變化情況 68

圖表 51 近4年大陽(yáng)日酸公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 68

圖表 52 近4年大陽(yáng)日酸公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 69

圖表 53 近4年大陽(yáng)日酸公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 69

圖表 54 近4年evonik industries公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 70

圖表 55 近4年evonik industries公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 70

圖表 56 近4年evonik industries公司銷售毛利率變化情況 71

圖表 57 近4年evonik industries公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 71

圖表 58 近4年evonik industries公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 72

圖表 59 近4年evonik industries公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 72

圖表 60 2012-2016年國(guó)內(nèi)高純-生產(chǎn)分析 75

圖表 61 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 76

圖表 62 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 76

圖表 63 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 76

圖表 64 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 77

圖表 65 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 77

圖表 66 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 78

圖表 67 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 78

圖表 68 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 79

圖表 69 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 79

圖表 70 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 79

圖表 71 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 80

圖表 72 近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 80

圖表 73 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 82

圖表 74 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 82

圖表 75 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 83

圖表 76 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 83

圖表 77 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 84

圖表 78 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 84

圖表 79 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 85

圖表 80 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 85

圖表 81 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 86

圖表 82 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 86

圖表 83 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 87

圖表 84 近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 87

圖表 85 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 89

圖表 86 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 89

圖表 87 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 90

圖表 88 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 90

圖表 89 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司銷售毛利率變化情況 91

圖表 90 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司銷售毛利率變化情況 91

圖表 91 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 92

圖表 92 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 92

圖表 93 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 93

圖表 94 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 93

圖表 95 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 94

圖表 96 近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 94

圖表 97 近4年六九硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 96

圖表 98 近4年六九硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 96

圖表 99 近4年六九硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 97

圖表 100 近4年六九硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 97

圖表 101 近4年六九硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 98

圖表 102 近4年六九硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 98

圖表 103 近4年六九硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 99

圖表 104 近4年六九硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 99

圖表 105 近4年六九硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 100

圖表 106 近4年六九硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 100

圖表 107 近4年六九硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 101

圖表 108 近4年六九硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 101

圖表 109 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 102

圖表 110 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 103

圖表 111 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 103

圖表 112 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 103

圖表 113 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司銷售毛利率變化情況 104

圖表 114 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司銷售毛利率變化情況 104

圖表 115 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 105

圖表 116 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 105

圖表 117 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 106

圖表 118 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 106

圖表 119 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 107

圖表 120 近4年浙江金華美晶硅電子有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 107

圖表 121 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 109

圖表 122 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 109

圖表 123 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 110

圖表 124 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 110

圖表 125 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司銷售毛利率變化情況 111

圖表 126 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司銷售毛利率變化情況 111

圖表 127 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 112

圖表 128 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 112

圖表 129 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 113

圖表 130 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 113

圖表 131 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 114

圖表 132 近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 114

圖表 133 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 116

圖表 134 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 116

圖表 135 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 116

圖表 136 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 117

圖表 137 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司銷售毛利率變化情況 117

圖表 138 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司銷售毛利率變化情況 118

圖表 139 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 118

圖表 140 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 119

圖表 141 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 119

圖表 142 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 119

圖表 143 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 120

圖表 144 近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 120

圖表 145 tic涂層的模型 123

圖表 146 cvd法的反應(yīng)類型和所沉積材料 125

圖表 147 cvd采用的加熱方式 126

圖表 148 開口體系cvd設(shè)備示意圖 126

圖表 149 幾種開口體系的反應(yīng)器示意圖 127

圖表 150 制備znse單晶設(shè)備示意圖 128

圖表 151 非晶硅太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)圖 132

圖表 152 非晶硅柔性太陽(yáng)能電池 133

圖表 153 大面積集成型疊層太陽(yáng)能電池 135

圖表 154 子電池示意圖 135

圖表 155 非晶硅太陽(yáng)電池的制備流程 136

圖表 156 2017-2022年我國(guó)高純-在電子信息產(chǎn)品中應(yīng)用市場(chǎng)需求量的- 141

圖表 157 2014-2016年全球半導(dǎo)體材料銷售分析 143

圖表 158 2012-2016年全球半導(dǎo)體材料銷售分析 145

圖表 159 2012-2016年半導(dǎo)體硅片出貨量分析 145

圖表 160 2012-2016年我國(guó)集成電路行業(yè)增長(zhǎng)情況 146

圖表 161 2016年我國(guó)集成電路出口情況 147

圖表 162 2016年集成電路產(chǎn)業(yè)內(nèi)銷產(chǎn)值增長(zhǎng)情況 147

圖表 163 2012-2016年我國(guó)集成電路固定資產(chǎn)投資增長(zhǎng)情況 148

圖表 164 2016年我國(guó)集成電路行業(yè)經(jīng)濟(jì)效益增長(zhǎng)情況 148

圖表 165 2012-2016年我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)發(fā)展規(guī)模分析 153

圖表 166 不同薄膜太陽(yáng)能電池研究應(yīng)用水平 164

圖表 167 現(xiàn)有各種太陽(yáng)能電池比較 171

圖表 168 -高世代面板線產(chǎn)能分布 184

圖表 169 -待投產(chǎn)高世代面板線 184

圖表 170 新型顯示產(chǎn)業(yè)政策 186

圖表 171 各省市新型顯示產(chǎn)業(yè)政策 187



-提示：-規(guī)劃期間，產(chǎn)業(yè)政策對(duì)本行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈有重新梳理，數(shù)據(jù)每個(gè)季度實(shí)時(shí)更新，關(guān)于報(bào)告的圖表部分，以當(dāng)時(shí)購(gòu)買報(bào)告的-數(shù)據(jù)為準(zhǔn)，圖表的個(gè)數(shù)或多或少，屆時(shí)以實(shí)際提交報(bào)告為準(zhǔn)，感謝關(guān)注和支持


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