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濕法腐蝕機(jī)用途主要用微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上顯影，濕法腐蝕，清洗，沖洗，甩干與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。設(shè)備能滿足各類以下尺寸的基片處理要求，并配制相應(yīng)的托盤夾具。濕法腐蝕機(jī)特點(diǎn)是外觀整潔、美觀，占地面積小，節(jié)省超凈間的使用面積。
化學(xué)清洗槽（也叫酸槽/化學(xué)槽），主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子,去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。
化學(xué)清洗槽（也叫酸槽/化學(xué)槽），主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子,去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。
蘇州晶淼是一些多年從事半導(dǎo)體濕法設(shè)備研發(fā)、制造的人員，因共同的理念，共同的信念，共同的使命感，聚攏在一起的團(tuán)隊(duì)。晶淼專于制造，用心細(xì)節(jié)，以客戶為中心，視-為生命，以進(jìn)取奮斗為本；視提升、-、發(fā)展個(gè)人價(jià)值，-服務(wù)社會(huì)為人生意義所在。，嚴(yán)謹(jǐn)，真誠(chéng)，守信、團(tuán)隊(duì)合作，開放進(jìn)取。晶淼必將是濕制程設(shè)備，未來的者！
jm 必屬-，必將成為濕制程設(shè)備供應(yīng)商的！
反應(yīng)離子刻蝕原理是將通入刻蝕室的工藝氣體分子解離，產(chǎn)生等離子體。一方面由等離子體中的部分活性基團(tuán)與被刻蝕材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，另一方面由于射頻自偏壓作用，等離子體中的正離子對(duì)被刻蝕材料，表面進(jìn)行物理轟擊，從而以物理化學(xué)相結(jié)合的方法達(dá)到材料表面刻蝕的目的。
清洗槽（也叫酸槽/化學(xué)槽），主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子,去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。
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