edi純水設(shè)備-瑞爾-edi純水設(shè)備廠家

高純水是化學(xué)純度-的水，其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/l，一般在電子、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中，為了達(dá)到產(chǎn)品所需工藝用水，一般需要電導(dǎo)率0.055μs/cm（電阻率18.2 mω?cm）的理論純水，統(tǒng)稱為高純水或超純水

目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達(dá)到99.999999%，其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/l，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/l以下，edi純水設(shè)備，電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。

純水設(shè)備的清洗方法：

低壓沖洗技術(shù)清洗法

在日常生活中，使用純凈水設(shè)備時(shí)也要清洗設(shè)備，因?yàn)殚L(zhǎng)時(shí)間使用會(huì)造成凈水設(shè)備污染，設(shè)備不能正常工作。定期采用低壓沖洗技術(shù)清洗設(shè)備表面污垢。

2、停止設(shè)備運(yùn)行保護(hù)

設(shè)備長(zhǎng)期運(yùn)行時(shí)，反滲透純水設(shè)備技術(shù)會(huì)出現(xiàn)波動(dòng)，一旦凈化水設(shè)備處理不合理將導(dǎo)致設(shè)備膜性能下降，-時(shí)可能導(dǎo)致設(shè)備不能使用。我們?cè)诙虝r(shí)間內(nèi)采取保護(hù)措施，適當(dāng)?shù)赝Ｖ乖O(shè)備的運(yùn)行也是設(shè)備清洗和保護(hù)的一種方法。

3、化學(xué)清洗法

純化水設(shè)備的膜表面易受某些微生物或無機(jī)物的影響。我們理想的清潔時(shí)間是每六個(gè)月一次。如果凈化水設(shè)備每月需要清洗一次，就意味著我們需要調(diào)整設(shè)備參數(shù)，改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)。因此，化學(xué)清洗凈化水設(shè)備的膜也是保護(hù)凈化水設(shè)備的系統(tǒng)之一。