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噴墨墨水
噴墨指的是一種非接觸式的打印方式。墨水通過小液滴的形式被噴到打印基材的表面。然后墨水通過壓電或者加熱的形式被揮發(fā)掉。無論是家用或是小型辦公用,甚至是大幅面的打印機,水性和溶劑型顏料基墨水或uv顏料基墨水是一種使用趨勢。為了-高色彩亮度和打印細節(jié),有機和無機顏料噴墨墨水已經(jīng)進入納米范圍,噴墨墨水如果顆粒太大,勢必會堵塞打印機或噴繪設備的噴頭,臥式砂磨機廠,從而噴頭損傷將不可避免。拓帕納米砂磨機hnm廣泛應用于噴墨墨水的生產,同時拓帕也有氧化-或者聚氨酯材質設計的納米砂磨機,用來加工無金屬污染的穩(wěn)定顏料分散體。而我們的實驗式納米砂磨機hnm03和hnm05可用于批量的實驗室應用和研發(fā)。
mlcc即多層陶瓷電容器,制造這些電容器的納米材料通常就是通過砂磨機精細研磨后的二氧化鈦(tio2)懸浮液,臥式砂磨機,或添加-、鈮、鈷的鈦酸鋇。這些納米顆粒通常都必須達到100納米以下,這些懸浮混有特殊的粘結劑,加工成陶瓷薄膜,厚度通常只有千分之一毫米。
納米材料應用的另一-案例就是拋光劑(cmp)。在這個過程中,氧化-臥式砂磨機,拋光懸浮劑用于加工晶片,用于芯片生產。這些懸浮劑對拋光層具有化學效應和機械腐蝕效果,對晶片表面有機械研磨效果。這些懸浮粒度分布必須準確界定,以便在這個過程中獲得適當流動性,其中的是消除所有-顆粒,防止劃傷造成的瑕疵;谘趸X或二氧化硅,cmp漿料的生產,拓帕納米砂磨機是必不可少的工業(yè)規(guī);a設備。
納米砂磨機分離技術,研磨介質的注意事項
隨著現(xiàn)代納米砂磨技術的進步,隨著產品細度要求的提高,研磨介質的使用越來越多,研磨介質分離系統(tǒng)的進步也越來越小。 小型研磨介質的分離是砂磨機發(fā)展中較為困難的問題之一。 那么,有關納米砂磨機研磨介質要求的細節(jié)是什么?
1.研磨介質尺寸:砂磨機中使用的研磨介質主要是球形。 直徑越小,單位體積中加載的介質數(shù)量越多,球之間的接觸點越多,并且產品的細度隨著相同的研磨時間而增加。 研磨介質太小會導致砂磨機出口分離器堵塞。 因此,砂磨機分離器的結構和狹縫的寬度決定了研磨介質的尺寸。 通常,臥式砂磨機品牌,研磨介質的直徑是砂磨機分離器間隙寬度的2-4倍。
2.研磨介質的填充率:實際情況具體分析。 所需的研磨效果:臥式砂磨機機的填充率一般為80-85%。 立式砂磨機的填充率通常為75-80%。 臥式砂磨機的填充率一般為85-95%。 測量方法=砂磨機的有效體積×加載速率(75-85%)×介電體積密度。 簡而言之,研磨介質的填充率太高,這可能導致砂磨機的溫度升得太高或者出口被堵塞。 研磨介質填充率低,研磨效率低,磨損增加,研磨時間延長。
3.研磨介質的重力:介質的比重越大,動能越大,研磨效率越高。 直徑為1.6-2.5mm的鋼球通常用于生產膠印油墨,而直徑為0.3-0.8mm的氧化-珠粒用于磨料噴墨油墨。
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