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真空納米鍍膜機的工作原理及操作方法，離子鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空蒸發(fā)鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧復合離子鍍膜機、真空光學(電子束蒸發(fā))鍍膜機等系列真空鍍膜設備，氣相沉積設備廠商，主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
離子濺射鍍膜，多半是在反應氣體存在下進行的，化合物沉積膜的穩(wěn)定性和光學常數(shù)，依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。反應濺射形成的氧化物是屬于有吸收而折射率不是-的鍍膜材料。
鍍膜設備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表-有金屬光澤的設備。真空鍍膜技術作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應用。
鍍膜設備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍
(1)鍍膜設備的特點： 成膜速度快0.1- 50um/min，氣相沉積設備廠家，設備比較簡單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長機理較簡單。
(2) 缺點：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復性不夠好。
隨著市場多元化的不斷需求，小型氣相沉積設備，對于很多企業(yè)來說需要根據(jù)其產(chǎn)品的工序購置不同的機器設備，氣相沉積設備，拿真空鍍膜行業(yè)來說，如果一臺機器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工-不需要轉(zhuǎn)換工序，那么無疑是企業(yè)的香餑餑，在單設備上實現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設備行業(yè)企業(yè)的共同需求。
科技的不斷-和發(fā)展，高度集成成為了許多行業(yè)的發(fā)展趨勢，真空鍍膜設備行業(yè)更是如此，隨著真空技術的發(fā)展、真空鍍膜的-以及傳統(tǒng)電鍍對環(huán)境的污染迫使真空鍍膜成為了主流，在近十幾年來，我國的真空鍍膜設備因企業(yè)的大量需求而迅速發(fā)展。
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