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用于cmp的拋光墊必須具有-的化學穩(wěn)定性(耐腐蝕性)、親水性以及機械力學特性。拋光墊通?煞譃橛操|(zhì)和軟質(zhì)(彈性、粘彈性)兩種。
硬質(zhì)拋光墊可較好地-工件表面的平面度
軟質(zhì)拋光墊可獲得加工變質(zhì)層和表面粗糙度都很小的拋光表面
用于cmp過程的硬質(zhì)拋光墊有各種粗布墊、纖維織物墊、聚乙烯墊等,軟質(zhì)拋光墊主要有聚氨酯墊、細毛氈墊、各種絨毛布墊等。拋光皮
不同分散劑會對拋光液中磨粒的分散穩(wěn)定性產(chǎn)“生不同的影響;分散劑的濃度也會對拋光液的分散穩(wěn)定性產(chǎn)“生影響。
5表面活性劑
在拋光液中加入合適的表面活性劑,能夠-拋光液的分散穩(wěn)定性,拋光白革,使分散劑吸附在磨粒的表面,從而改變磨粒的表面性質(zhì),增強了顆粒間的排斥作用
能。但是表面活性劑的添加量也必須更具實際情況予以控制,否則會是得拋光效率變差。
拋光墊其表面結(jié)構(gòu)起到很重要的作用,其中的作用是影響著拋光墊儲存、運送拋光液的能力和表面局部應(yīng)力梯度等,下面小福給大家講解下拋光墊的表面結(jié)構(gòu),讓大家了解拋光墊表面結(jié)構(gòu)不同的作用。
拋光皮具有平整型和帶有不同溝槽型的表面結(jié)構(gòu),拋光白革的,福吉常規(guī)開槽有(網(wǎng)格型,圓圈型,螺旋形、等形狀)不同形狀的溝槽起到不同的拋光效果。
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