隨著半導體芯片工藝技術節(jié)點進入 28 納米、14 納米等更-等級,工藝流程的延長且越趨復雜,產(chǎn)線成品率也會隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個原因就是-制程對雜質(zhì)的敏感度更高,半導體設備,小尺寸污染物的清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟。每個晶片在整個制造過程中需要甚至超過 200 道清洗步驟,晶圓清洗變得復雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。
北京
上海
天津
重慶
河北
山西
內(nèi)蒙古
遼寧
吉林
黑龍江
江蘇
浙江
安徽
福建
江西
山東
河南
湖北
湖南
廣東
廣西
海南
四川
貴州
云南
西藏
陜西
甘肅
青海
寧夏
新疆
本站圖片和信息均為用戶自行發(fā)布,用戶上傳發(fā)布的圖片或文章如侵犯了您的合法權益,請與我們聯(lián)系,我們將及時處理,共同維護誠信公平網(wǎng)絡環(huán)境!
ICP備案:滇ICP備13003982號 滇公網(wǎng)安備 53011202000392號
信息侵權/舉報/投訴處理
版權所有 ©100招商網(wǎng) 防騙須知 緩存時間:2025/8/1 9:27:37