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半導(dǎo)體清洗機(jī)濕式清洗制程中,主要應(yīng)用項(xiàng)目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項(xiàng),晶圓 (濕式) 清洗制程主要是希望藉由化學(xué)-與清洗設(shè)備,清除來(lái)自周遭環(huán)境所附著在晶圓表面的臟污,以達(dá)到半導(dǎo)體組件電氣特性的要求與-度。
蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)pp/pvc通風(fēng)柜/廚、cds化學(xué)品集中供液系統(tǒng)解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、led等行業(yè)及-院校、研究所等等科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。
與噴鋼砂,顯影清洗機(jī),噴玻璃砂,噴塑料砂和噴蘇打相似,干冰噴射介質(zhì)干冰顆粒在高壓氣流中加速,顯影腐蝕臺(tái),沖擊要清洗的表面。干冰清洗的-之處在于干冰顆粒在沖擊瞬間氣化。干冰顆粒的動(dòng)量在沖擊瞬間消失。干冰顆粒與清洗表面間迅速發(fā)生熱交換。致使固體co2迅速升華變?yōu)闅怏w。干冰顆粒在千分之幾秒內(nèi)體積膨脹近800倍,這樣就在沖擊點(diǎn)造成“微型·”。由于co2揮發(fā)掉了,干冰清洗過(guò)程沒(méi)有產(chǎn)生任何二次廢物,留下需要收集清理的只是清除下來(lái)的污垢。
清洗安全操作規(guī)范:
(1)操作前,一定要檢查工作臺(tái)通風(fēng)是否-,如有異常,向上級(jí)-或向動(dòng)力保障部門說(shuō)明情況,請(qǐng)求調(diào)整;
(2)在通風(fēng)櫥里開啟-,并一定要戴上口罩、塑膠手套和防酸手套;
(4)擰開-蓋后,取下瓶口的塑封膜并扔進(jìn)垃圾桶,在傾倒-時(shí),一定要確定塑封膜是否在瓶上。
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