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膜厚測(cè)量———廣州景頤光電科技有限公司是一家專門做膜厚儀的廠家
光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x
光學(xué)膜厚儀是通過(guò)測(cè)量一定波長(zhǎng)內(nèi)光線垂直入射到樣品表面時(shí),薄膜表面的反射光來(lái)測(cè)量薄膜的厚度、粗糙度及光學(xué)常數(shù)。由于光學(xué)測(cè)量膜厚方法準(zhǔn)確、無(wú)破壞,且光譜反射法比橢偏儀操作簡(jiǎn)單、測(cè)試速度快,適合測(cè)量具有結(jié)構(gòu)的薄膜。
設(shè)備性能指標(biāo):
1、測(cè)量薄膜厚度范圍:4nm~30um(使用10x、15x物鏡,樣品折射率為1.5左右時(shí),4nm~2um(使用40x物鏡);
2、測(cè)試面積:光欄尺寸(250um)/物鏡倍率;
3、該設(shè)備顯微鏡物鏡:5x、10x、15x、40x。其中5x物鏡用于尋找測(cè)試區(qū)域,10x和15x物鏡用于測(cè)試薄膜厚度;
4、40x物鏡用于測(cè)試厚度低于2um的薄膜厚度;
5、測(cè)試精度:測(cè)試膜層總厚度的0.2%或2nm中的較大者;
6、光源:燈、鎢燈;
7、測(cè)試波長(zhǎng)范圍:190nm~1100nm;
8、大測(cè)試樣品尺寸:8寸。
歡迎咨詢景頤光電了解更多膜厚測(cè)量
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區(qū)分涂層測(cè)厚儀與無(wú)損涂層測(cè)厚儀關(guān)鍵性在于哪些方面
涂層測(cè)厚儀與無(wú)損涂層測(cè)厚儀的差別,重要如下所述。涂層測(cè)厚儀跟無(wú)損涂層測(cè)厚儀,都是用來(lái)丈量資料名義厚度的,然而涂層測(cè)厚儀與無(wú)損涂層測(cè)厚儀之間存在必定的差別。下面咱們?cè)敿?xì)來(lái)先容涂層測(cè)厚儀與無(wú)損涂層測(cè)厚儀的差別。
涂層測(cè)厚儀與無(wú)損涂層測(cè)厚儀的差別:
涂層測(cè)厚儀,重要用在名義處置行業(yè),是用來(lái)丈量金屬或塑膠名義的涂層厚度。
無(wú)損涂層測(cè)厚儀,分為磁性跟渦流兩種,也有磁性渦流二合一兩用型的。常用于丈量底材是金屬的名義鍍層的厚度,以是也叫做鍍層測(cè)厚儀。
磁性測(cè)厚儀專丈量磁性金屬如鋼鐵下面鍍層厚度(鍍層除磁性金屬,膜厚測(cè)量?jī)r(jià)格,如鋼鐵、鎳以外),非磁性的銅、鋁、錫等下面的鍍層就測(cè)不了。渦流測(cè)厚儀專丈量非磁性金屬,比方銅、鋁等下面的絕緣層厚度(涂層必需長(zhǎng)短導(dǎo)電資料)。
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闡述膜厚儀-短與電池電壓有密切關(guān)系
當(dāng)電池長(zhǎng)工作運(yùn)用時(shí),浙江膜厚測(cè)量,電壓會(huì)升高。此時(shí),電壓的升高會(huì)惹起膜厚儀的測(cè)量誤差或順序凌亂。起因是鍍層測(cè)厚儀分為磁式和渦流式兩種。以磁性鍍層測(cè)厚儀為例,用電磁感應(yīng)法測(cè)量其原始鍍層厚度。
位于元件外表的探針發(fā)生閉合磁路。隨著探頭與鐵磁資料間隔的變動(dòng),磁路會(huì)產(chǎn)生不同水平的變動(dòng),招致探頭磁阻和線圈電感的變動(dòng)。
應(yīng)用這一原理,膜厚測(cè)量,可以準(zhǔn)確測(cè)量探頭與鐵磁資料之間的間隔,即涂層厚度。
渦流鍍膜測(cè)厚儀的原理是:高頻交流信號(hào)在探頭線圈中發(fā)生電磁場(chǎng),探頭湊近導(dǎo)體時(shí)在線圈中造成渦流。探頭離導(dǎo)電基板越近,渦流越大,反射阻抗越大。
該反應(yīng)舉措示意探針與導(dǎo)電基板之間的間隔,即導(dǎo)電基板上的非導(dǎo)電涂層的厚度。
膜厚儀電壓的升高會(huì)招致儀器電源的缺乏,而關(guān)于磁性涂層,則會(huì)減弱儀器探頭對(duì)基體的磁效應(yīng),使測(cè)量后果變小,或涂層厚度-。
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