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微弧氧化電解液組成及工藝條件
微弧氧化電解液組成:k2sio3 5~10g/l,na2o2 4~6g/l,naf 0.5~1g/l,ch3coona 2~3g/l,na3vo3 1~3g/l;溶液ph為11~13;溫度為20~50℃;陰極材料為不銹鋼板;電解方式為先將電壓迅速上升至300v,并保持5~10s,然后將陽(yáng)極氧化電壓上升至450v,鋁合金微弧氧化原理,電解5~10min。
兩步電解法,-步:將鋁基工件在200g/l的鉀水玻璃水溶液中以1a/dm2的陽(yáng)極電流氧化5min;第二步:將經(jīng)-步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/l的na3p2o7水溶液中以1a/dm2的陽(yáng)極電流氧化15min。陰極材料為:不銹鋼板;溶液溫度為20~度為20~50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線
微弧氧化,是在電解質(zhì)溶液中(一般是弱堿性溶液)施加高電壓(直流、交流或脈沖)在材料表面原位生長(zhǎng)陶瓷氧化膜的過(guò)程,該過(guò)程是物理放電與電化學(xué)氧化、等離子體氧化協(xié)同作用的結(jié)果。微弧氧化技術(shù)是在普通陽(yáng)極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,鋁合金微弧氧化,進(jìn)一步提高電壓,使電壓超出法拉第區(qū),鋁合金微弧氧化價(jià)格,達(dá)到氧化膜的擊穿電壓,就會(huì)在陽(yáng)極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象,在材料表面形成陶瓷氧化膜,使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的,又保持了陽(yáng)極氧化膜與基體的結(jié)合力。
微弧氧化技術(shù)
為提高鋁材料的表面性能,常用的方法有電鍍,激光,鋁合金微弧氧化電話,陽(yáng)極氧化等,其中微弧氧化技術(shù)是基于陽(yáng)極氧化發(fā)展起來(lái)的一種的表面強(qiáng)化處理技術(shù)。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高電壓進(jìn)行氧化。隨著電壓的遞增,逐步進(jìn)入火花放電階段,并通過(guò)瞬時(shí)高溫?zé)Y(jié)作用使氧化膜結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,生成陶瓷膜層。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝
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