膜厚測(cè)試儀-一六儀器-淄博測(cè)厚儀

一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(ci)- -(u)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層，24種元素 厚度檢出限:0.005um

（一）、內(nèi)部結(jié)構(gòu)

   x熒光光譜測(cè)厚儀機(jī)型很多，膜厚測(cè)試儀，但是其內(nèi)部結(jié)構(gòu)如果先天不足，后期的外部結(jié)構(gòu)無論自動(dòng)化多高，也無法完全滿足客戶需求。內(nèi)部結(jié)構(gòu)重要的3點(diǎn)：

1、x熒光發(fā)射和ccd觀測(cè)是否同步和垂直？

2、測(cè)試樣品是否可以變化測(cè)頭到樣品的距離？

3、x光照射面積從出口到樣品的擴(kuò)散情況。

（二）、各種內(nèi)部結(jié)構(gòu)的優(yōu)缺點(diǎn)

   1、x熒光發(fā)射和ccd觀測(cè)樣品只有同步且垂直才不會(huì)因?yàn)闃悠返母叩蜕顪\變化而改變測(cè)試到樣品的位置，才能-定位-，同時(shí)減少與探測(cè)器或計(jì)數(shù)器的夾角，夾角小測(cè)試時(shí)

受樣品曲面或者傾斜影響小。

2、測(cè)試樣品距離可變化才能測(cè)試高低不平帶凹槽的樣品工件，同時(shí)也-好平面樣品的測(cè)試。但是它需要配備變焦鏡頭和變焦

補(bǔ)償射線的算法。

3、x光照射面積從出口到樣品的擴(kuò)散過于-會(huì)導(dǎo)致無法測(cè)試樣品工件上較小的平面位置，如果減小出口（準(zhǔn)直器直徑），又會(huì)-耗損x光的強(qiáng)度。

因此一臺(tái)此類儀器的小準(zhǔn)直器不是關(guān)鍵，但是測(cè)試面積卻是個(gè)重要的指標(biāo)。

    一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

   元素分析范圍:氯(ci)- -(u)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

   一次可同時(shí)分析:23層鍍層，24種元素   厚度檢出限:0.005um

     x射線熒光光譜測(cè)厚儀   x射線的產(chǎn)生  

x射線波長(zhǎng)略大于0.5納米的被稱作軟x射線。波長(zhǎng)短于0.1納米的叫做硬x射線。

產(chǎn)生x射線的簡(jiǎn)單方法是用加速后的電子撞擊金屬靶。撞擊過程中，電子突然減速，其損失的動(dòng)能(其中的1%)會(huì)以光子形式放出，形成x光光譜的連續(xù)部分，光譜分析儀，稱之為制動(dòng)輻射。通過加大加速電壓，鍍層分析儀，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內(nèi)層電子撞出。于是內(nèi)層形成空穴，外層電子躍遷回內(nèi)層填補(bǔ)空穴，同時(shí)放出波長(zhǎng)在0.1納米左右的光子。由于外層電子躍遷放出的能量是-化的，所以放出的光子的波長(zhǎng)也集中在某些部分，形成了x光譜中的特征線，此稱為特性輻射。